Intel invierte 5.000 millones de dólares en su planta israelí para acelerar la producción de los 10nm

El ministro de Economía israelí, Eli Cohen, reveló hoy que después de conversar con Intel, la compañía compartió sus planes para realizar una inversión de 5.000 millones de dólares (4.070 millones de euros) en su planta de Kiryat Gat, ubicada en el sur de Israel.

La planta de Kiryat Gat, actualmente, cuenta con herramientas e instalaciones de fabricación que permiten producir solo chips a una litografía de 22 nanómetros (22nm), definitivamente no de vanguardia, pero aún algo relevantes en el mercado de semiconductores para tecnologías más simples. La inversión de Intel elevaría las capacidades de esta planta a niveles de fabricación de 10 nm. para estar a la vanguardia y servir de refuerzo a Intel a lanzar sus nuevos productos.

Intel comenzaría a expandir la planta este año y el trabajo se completaría en el 2020, dijo el ministro en un comunicado. Naturalmente, con la inversión vienen las oportunidades impositivas y los incentivos del gobierno. En el 2014, Intel recibió una subvención estatal con un valor del 5 por ciento de los 6.000 millones que invirtió en la actualización de la planta en 2014, y ahora recibiría una subvención adicional de hasta un 10 por ciento del valor de su última expansión.

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